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日本電子電鏡可對各種材料的物質(zhì)表面形貌進行觀察，特別適用于不便進行破壞性處理的塊狀樣品；配合能譜儀可以對各種元素進行定性、定量分析；配合電子背散射衍射系統(tǒng)可進行織構、晶體取向等分析。廣泛應用于金屬材料、無機材料、高分子材料、催化劑、潤滑材料、地質(zhì)礦物、金屬、沙漠、生物醫(yī)學等方面。電子顯微鏡是以電子束作光源、電磁場作透鏡、具有高分辨率和放大倍率的顯微鏡。電鏡通過收集、整理和分析電子與樣品相互作用產(chǎn)生的各種信息而獲得物體的形貌和結構等。電鏡的類型也是利用電子信號的不同和成像的不同...

由于半導體器件體積小、重量輕、壽命長、功率損耗小、機械性能好.因而適用的范閘極廣。然而半導體器件的性能和穩(wěn)定性在很大程度上受它表面的微觀狀態(tài)的影響。一般在半導體器件試制和生產(chǎn)過程巾包括了切割、研磨、拋光以及各種化學試劑處理等一系列工廳，~正是在這些過程巾，會造成表面的結構發(fā)生驚人的變化，所以幾乎每一個步驟都需要對擴散進行檢測.深度進行測繭或者直接看到擴散區(qū)的實際分布情況，而生產(chǎn)大型集成電路就更是如此。目前.臺式掃電鏡在半導體中的應用已經(jīng)深入到許多方面。臺式電鏡SEM質(zhì)量監(jiān)控與...

高溫環(huán)境XRD主要應用于樣品的物相定性或定量分析，晶體結構分析，材料的織構分析，宏觀應力或微觀應力的測定，晶粒大小測定，結晶度測定等等，因此，在材料科學、物理學、化學、化工、冶金、礦物、藥物、塑料、建材、陶瓷……以至考古、刑偵、商檢等眾多學科、相關的工業(yè)、行業(yè)中都有重要的應用。是理工科院校和涉及材料研究、生產(chǎn)的研究部門、廠礦的重要的大型分析設備。高溫環(huán)境XRD基本構成包括：高穩(wěn)定度X射線發(fā)生器，精密測角臺，X射線強度測量系統(tǒng)，安裝有專用軟件的計算機系統(tǒng)等四大部分。按其X射線發(fā)...

鎢燈絲電鏡成像所用的物理信號是電子束轟擊固體樣品而激發(fā)產(chǎn)生的。具有一定能量的電子，當其入射固體樣品時，將與樣品內(nèi)原子核和核外電子發(fā)生彈性和非單生散射過程，激發(fā)固體樣品產(chǎn)生多種物理信號，如二次電子、背散射電子、吸收電子、X射線、俄歇電子等。SEM中的三種主要信號：背散射電子：入射電子在樣品中經(jīng)散射后再從上表面射出來的電子。反映樣品表面不同取向、不同平均原子量的區(qū)域差別。二次電子：由樣品中原子外殼層釋放出來，在掃描電子顯微術中反映樣品上表面的形貌特征。x射線：入射電子在樣品原子激...

任何物質(zhì)的光譜產(chǎn)生都有著嚴格的物理機制。分子的能量由電子能量、振動能量和轉(zhuǎn)動能量組成。根據(jù)理論計算，振動能級之間的能量差在0.25~1.0eV之間時，光譜產(chǎn)生在近中紅外區(qū)。在0.4~1.3um范圍內(nèi)，主要取決于礦物晶格結構中存在的鐵等過渡性金屬元素；1.3～2.5um范圍內(nèi)的光譜特性是由礦物中的碳酸根離子、氫氧根離子和水分子決定的；3~5um光譜范圍的中遠紅外波段光譜由Si-O、Al-O等分子鍵振動模式?jīng)Q定。在對巖礦光譜進行定量分析時，根據(jù)礦物的吸收特征，為每種礦物建立起綜合...

臺式電鏡是一個復雜的系統(tǒng)，濃縮了電子光學技術、真空技術、精細機械結構以及現(xiàn)代計算機控制等技術。是在加速高壓作用下將電子槍發(fā)射的電子經(jīng)過多級電磁透鏡匯集成細?。ㄖ睆揭话銥?~5nm）的電子束（相應束流為10-11~10-12A）。在末級透鏡上方掃描線圈的作用下，使電子束在試樣表面做光柵掃描（行掃+幀掃）。入射電子與試樣相互作用會產(chǎn)生二次電子、背散射電子、X射線等各種信息。這些信息的二維強度分布隨著試樣表面的特征而變化（這些特征有表面形貌、成分、晶體取向、電磁特性等等），將各種探...

鎢燈絲電鏡的低壓性能與與臺式電子顯微鏡不兼容的更多樣品*兼容。其低電壓性能非常有限，并且不能與大多數(shù)非導電樣品兼容。蔡司傳統(tǒng)的鎢絲掃描電子顯微鏡的加速電壓為0.2-30kV，電子束電流范圍為0.5pA-5uA。它的低電壓性能遠遠超過臺式電子顯微鏡，并且具有低真空模式。它與導電樣品，非導電樣品和電子束*兼容。輻射敏感樣品，含水或除氣的樣品等。同時，獲取樣品的表面信息(無論是表面成像還是能譜)，可以為您顯示清晰樣品表面細節(jié)。燈絲是臺式掃描電鏡（SEM）重要的模塊之一。它的目的是提...